3031
ASML зміцнює практично унікальне положення на ринку обладнання для виробництва найсучасніших мікросхем. Великі виробники напівпровідників дедалі активніше готуються до використання систем High Numerical Aperture, або High NA, які коштують близько $400 млн за одну установку і мають стати наступним етапом розвитку EUV-літографії.
High NA дозволяє друкувати на кремнієвих пластинах елементи приблизно на 40% менші, ніж нинішні системи EUV. Це дає виробникам можливість розміщувати більше транзисторів у тій самій площі та продовжувати зменшення технологічних норм без переходу до складніших багатократних експозицій.
Раніше частина клієнтів ASML сумнівалася, чи виправдана настільки висока ціна нового обладнання. Однак ситуація змінюється на тлі стрімкого попиту на процесори та пам’ять для штучного інтелекту. TSMC, Samsung, SK Hynix та Intel уже визначили плани щодо використання High NA у майбутньому виробництві.
Intel однією з перших почала активно працювати з такими системами. Samsung і SK Hynix планують застосовувати High NA у виробництві DRAM із 2028 року, тоді як TSMC очікує масштабнішого переходу ближче до 2030 року.
ASML залишається єдиним постачальником EUV-обладнання для передового виробництва чипів. За оцінками, у 2025 році компанія контролювала близько 94% світового ринку літографії, а її традиційні конкуренти Nikon і Canon не мають прямого аналога EUV.
Звичайні системи EUV ASML вартістю близько $200 млн уже розпродані на роки вперед, а інтерес до High NA посилюється. Для галузі це означає, що наступні покоління процесорів і пам’яті значною мірою залежатимуть від темпів виробництва та розвитку обладнання однієї нідерландської компанії.
